對于真空鍍膜機設備的分類，到底了解多少？
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設備，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。

主要是分成蒸發和濺射兩種。
在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。
基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，
并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同規格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。