物理蒸鍍就是把物質加熱揮發，然后將其蒸氣沉積在預定的基材上。由于蒸發源須加熱揮發，又是在真空中進行，故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。

其可分為三個步驟: 

(1)凝態的物質被加熱揮發成汽相  
(2)蒸汽在具空中移動一段距離至基材 
(3)蒸汽在基材上冷卻凝結成薄膜